| 手套箱（帶有凈化系統(tǒng)） | ·腔體尺寸：1200 mm L x 740 mm W x 900 mm H，材質(zhì)不銹鋼 ·腔體前門設(shè)計為開啟式，便于放置設(shè)備和樣品。 ·手套箱配有凈化系統(tǒng)，可以快速去除手套箱內(nèi)的O2和H2O ·凈化系統(tǒng)安裝有自動再生系統(tǒng)（自動對吸氧和吸水材料進行凈化） ·凈化系統(tǒng)確保手套箱內(nèi)的O2和H2O含量低于1PPM ·2個不同過度倉，保證在不破壞手套箱氣氛環(huán)境下，達到手套箱內(nèi)外樣品傳遞
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| 濺射鍍膜儀 | ·濺射儀鑲嵌在手套箱底部，采用一個鉸鏈式法蘭把手套箱腔體和濺射儀腔體隔離開 ·3個2英寸磁控濺射頭，安裝在濺射儀頂部
·3個濺射電源安裝在一空控制單元盒內(nèi)，置于手套箱外。請根據(jù)實驗要求選擇濺射電源： 1個或2個直流電源：功率500W，用于濺射金屬靶材（圖1） 1個或2個射頻電源：功率300W，頻率13.56MHz,用于濺射非導(dǎo)電性靶材。
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| 磁控濺射頭 | ·3個2英寸磁控濺射頭，帶有水冷夾層 ·靶材直徑要求：25mm ·靶材厚度范圍：0.1~5mm ·設(shè)備中包含1個不銹鋼靶材和氧化鋁靶材用于儀器測試
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| 真空腔體 | ·真空腔體尺寸：Φ300mm×300mm ·一個石英觀察窗口，直徑Φ100mm
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| 樣品臺 | ·樣品臺可轉(zhuǎn)動（為了薄膜均勻）和加熱，采用陶瓷加熱片加熱，表面覆蓋銅板 ·樣品臺尺寸：直徑140mm,可放置4英寸基片 ·轉(zhuǎn)動速度：1-120rpm(可調(diào)） ·樣品臺加熱溫度：室溫-500℃（2小時），控溫精度正負1℃
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| 氣體&流量控制 | 2個精密的氣體質(zhì)量流量計安裝在設(shè)備上 流速：0—200ml/min&0-100ml/min,可在觸摸屏面板上設(shè)置參數(shù) 一個進氣閥安裝在設(shè)備上，用于破壞真空 需要純度為5N的Ar氣，來運行濺射鍍膜儀
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| 真空泵 | 設(shè)備中配有一個抽氣速率為240L/min的雙級旋片真空泵 因為濺射儀與手套箱連接，所以不需要分子泵系統(tǒng)，手套箱內(nèi)部惰性氣體的水氧含量＜1PPM，遠好于用分子泵的效果
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| 循環(huán)水冷機 | 一個數(shù)顯溫度可控的循環(huán)水冷機 溫度范圍：5~35℃ 流量：16L/min 泵壓：0.1MPa
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| 可選 | 精密石英薄膜測后儀，可安裝在濺射腔體內(nèi)，實時檢測薄膜厚度，顯示精度為0.1?
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| 電源要求 | ·單相220 VAC 50 / 60 Hz ·3000 W (包括真空泵和循環(huán)水冷機) |
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