| 設(shè)備名稱與型號 | 高能直流磁控濺射鍍膜儀（配旋轉(zhuǎn)樣平臺和水冷機組） VTC-16-SM |
| 基本參數(shù) | · 電源：AC 220V 50/60Hz · 濺射電流：0-130mA · 功率：＜1KW · 輸出電壓：最大1600VDC |
| 設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點 | · 可抽真空、通氣氛 · PLC集成的控制系統(tǒng) · 石英腔室、等離子磁控濺射靶頭，靶材濺射擋板 · 帶靶頭支撐架 · 水冷系統(tǒng) · 薄膜測厚儀（選配） · 樣品臺加熱（選配） 特點 ·體積小巧，可選擇手套箱專用版本 ·射頻電源版本可選 ·最大可制備4英寸薄膜 |
| 磁控濺射頭 | · 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），另有1英寸靶頭可選； · 采用快速接頭與真空腔體相連接
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| 靶材 | · 適合濺射金、銀、鋁、銅等金屬，對基片的損傷和基片溫升比較少 · 標配一塊銅靶，φ2″*3mm · 靶材尺寸要求：φ2″×（0.1-5）mm厚度 · 靶材和樣品臺之間的距離為60-100mm可調(diào) |
| 濺射腔室 | ·腔室尺寸：外徑166mm×內(nèi)徑150mm×高290mm，采用高純石英制作； ·密封法蘭: 采用金屬鋁制作，氟膠密封圈密封； · 法蘭蓋上安裝了一個可手動操作的擋板，用于靶材的預(yù)濺射。一個φ6.35的卡套接頭為進氣口，用于連接進氣管。一個手動放氣閥用于往石英腔體內(nèi)部充入空氣。 ·一個不銹鋼網(wǎng)罩罩住整個石英腔體，以屏蔽等離子體。
·通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的微量精密調(diào)節(jié)閥控制進入石英腔體內(nèi)部工作氣體的流量，從而達到調(diào)節(jié)腔體內(nèi)部的真空度 ·通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的電位器，實現(xiàn)對濺射電流大小的控制。
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| 樣品臺 | · 樣品臺可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻） · 樣品臺尺寸：直徑φ50mm （最大可放置2英寸的基片） · 旋轉(zhuǎn)速度：5 r/min · 樣品臺可選配加熱功能，最高加熱溫度可達500℃ 樣品臺可選配制冷功能，最低制冷溫度可達5℃
· 可訂購其他樣式的樣品臺用于鍍膜光纖等線材的圓周表面
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| 控制面板 | · 4″PLC集成觸摸屏控制面板，可顯示真空、電流、樣品濺射時間等，
·數(shù)據(jù)記錄功能可以記錄每次濺射的真空度、電流和濺射時間等工藝參數(shù)，方便客戶進行查詢。 |
| 真空系統(tǒng)（選配） | · 型號：VRD-8 · 抽氣速率：2.2 L/S · 電機功率：370 W · 極限壓強：5×10-1Pa（不帶負載） · 實際壓強：≤5 Pa（冷態(tài)下機械泵抽20分鐘） · 如果想要獲得更高的真空度（10-5toor or better）可選購國產(chǎn)或進口高真空機組
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| 水冷設(shè)備（選配） | · 型號：KJ-5000 · 工作電流：1.4-2.1A · 制冷量：2361Btu/h · 尺寸：55×28×43cm（長×寬×高） · 水箱容量：6L · 水流速率：16L/min |
| 薄膜測厚儀（選配） | · 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10? · LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
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| 設(shè)備尺寸 | ·460mm（長）*360mm（寬）*710mm（高） |
| 重量 | 約20KG |
| 保質(zhì)期 | 1年（不包密封圈等損耗件） |
注意事項 | · 腔室內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa（相對氣壓）； · 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向石英管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，為了確保安全，建議使用壓力低于0.02MPa，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全； · 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體，如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體，請客戶自行做好相關(guān)防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關(guān)問題，本公司概不負責。 |
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