| 產(chǎn)品名稱型號 | 分體式單靶磁控濺射儀（射頻/直流可選，Ar手套箱內(nèi)可用) VTC-2RF-STX（2英寸） |
| 電源 | AC220V/50HZ |
| 射頻電源（選配） | · 輸入電源：220V · 輸出功率：0-300W · 輸出頻率：13.56 MHZ · 冷卻方式：設(shè)備內(nèi)部的冷卻方式為風(fēng)冷
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| 直流電源（選配） | · 輸入電源：220V · 直流輸出功率：0-500W · 最大工作電流：0.75A · 冷卻方式：設(shè)備內(nèi)部的冷卻方式為風(fēng)冷
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| 石英腔室 | ·石英罩：167mm ODx152mm IDx250mm H ·下法蘭蓋為304不銹鋼材質(zhì)，上法蘭蓋為鋁材質(zhì) ·腔室極限真空度 配置機械泵<1pa(7.5*10-2 torr) 配置分子泵<5*10-3Pa(3.7*10-5 torr) ·法蘭蓋上帶有手動泄壓閥
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| 樣品臺 | · 一個直徑為Φ50mm的不銹鋼樣品臺，樣品臺可轉(zhuǎn)動，旋轉(zhuǎn)速率為：0.5-5 RPM/min； · 樣品臺標(biāo)配加熱功能，樣品臺最高加熱溫度500℃； · 可以根據(jù)客戶需要選配樣品臺冷卻功能，樣品臺冷卻最低溫度5℃。
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| 濺射靶頭 | · 標(biāo)配2英寸的磁控濺射頭，內(nèi)部嵌有冷卻水管，可以通水冷實現(xiàn)對磁鋼和靶材的冷卻，從而能夠可以長時間進行濺射； · 配有一手動操作的擋板，當(dāng)?shù)谝淮螢R射清除靶材表面的氧化層和污物層，擋住基片，防止污染基片； · 樣品臺和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍：60-80mm。 （可根據(jù)客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭）
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| 靶材 | · 設(shè)備標(biāo)配一塊銅靶材，尺寸：φ50.8mm(2″)x 3 mm(厚度)； 客戶如果需要其它靶材，可聯(lián)系銷售進行訂購， · 可選購濺射靶材：Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn等。 · 要求靶材尺寸：Φ50.8mm×0.1- 5mm(厚度） |
| 饋通（選配） | · 如果您打算在手套箱內(nèi)使用此設(shè)備，請選配 KF40 饋通，用于連接手套箱外的電源、冷水機和真空泵
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| 水冷設(shè)備（選配） | · 型號：KJ-5000 · 工作電流：1.4-2.1A · 制冷量：2361Btu/h · 尺寸：55×28×43cm（長×寬×高）
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| 薄膜測厚儀（選配） | · 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分別率為0.10 ? · LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
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| 真空泵（選配） | ·機械泵型號：VRD-8 ·抽速：2.2L/S（8m3/h） ·進氣口：KF25 ·工作環(huán)境溫度：5-40℃ ·噪音：≦56 dB ·極限真空度：5*10-4 torr（不帶負載） ·為了達到更好的鍍膜效果，可選購分子泵對濺射腔體抽真空， 真空度可達到10-5Torr
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| 外形尺寸 | · 主機尺寸：460Lx300Wx715H mm
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| 重量 | 20KG |
| 保質(zhì)期 | 1年（不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件） |
注意事項 | · 腔室內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa（相對氣壓）； · 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向石英管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，為了確保安全，建議使用壓力低于0.02MPa，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全； · 對于樣品加熱的實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等） · 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體，如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體，請客戶自行做好相關(guān)防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關(guān)問題，本公司概不負責(zé)。 |
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