| 名稱型號 | 等離子磁控鍍膜儀 VTC-1RF |
| 基本參數(shù) | · 電源：AC 220V 50/60HZ · 功率：＜1800W |
| 射頻電源 | · 輸入電源：220V 3A · 輸出功率：0-300W · 輸出頻率：13.56 MHZ · 冷卻方式：設備內(nèi)部的冷卻方式為風冷 · 尺寸：444（長）*410（寬）*128（高）
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| 磁控濺射頭 | · 1英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接 · 靶材尺寸要求：φ25.4*（0.1-3）mm厚
· 1英寸磁控濺射頭可承受最大射頻功率：100W ·1英寸磁控濺射頭可承受最大直流功率：250W |
| 濺射腔室 | ·腔室尺寸：外徑φ166*內(nèi)徑φ150*高250mm，采用高純石英制作 · 密封法蘭:直徑為174mm 采用金屬鋁制作，采用氟膠密封圈密封 · 法蘭蓋上安裝了一個可手動操作的擋板，用于靶材的預濺射，法蘭蓋上包含一個φ6.35的卡套接頭用于連接進氣管。 · 一個不銹鋼網(wǎng)罩罩住整個石英腔體，以屏蔽等離子體 · 腔室真空度：<1.0×10-2 Torr （采用雙極旋片真空泵）,<5×10-5 torr （采渦旋分子泵） · 如果需要更高真空度，可以定做不銹鋼真空腔室（真空度可以達到5*10-6torr以下）
· 腔體進氣口為Φ6.35mm的不銹鋼雙卡套接頭，通過聚四氟管可與氣瓶連接，并通過一個精密微量調(diào)節(jié)閥控制進氣量的大小 |
| 樣品臺 | · 樣品臺可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻）并可加熱 · 樣品臺尺寸：直徑50mm （最大可放置2英寸的基片） · 旋轉(zhuǎn)速度：1- 10 rpm（可調(diào)速） · 樣品臺的最高加熱溫度為700℃(短期使用，恒溫不超過1小時)，長期使用溫度500℃ · 控溫精度：±10℃
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| 真空顯示單元 | · 真空計型號：ZDZ-52T · 測量范圍：1.0×105Pa~1.0×10-1Pa · 有效范圍：3.0×103Pa~1.0×100Pa · 配接硅管：ZJ-52T/KF16 · 面板尺寸：96*96 mm · 真空計配套的規(guī)管只能測量空氣和氮氣，有其他氣體成分比例較大的場合需另外修正 |
| 真空系統(tǒng)（選配） | · 抽真空接口為KF25接口 · 真空泵型號：VRD-16 · 抽氣速率：4.4 L/S · 電機功率：750 W · 極限壓強：5×10-1Pa（不帶負載）
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| 水冷設備（選配） | · 型號：KJ-5000 · 工作電流：1.4-2.1A · 制冷量：2361Btu/h · 尺寸：55×28×43cm（長×寬×高） · 水箱容量：6L · 水流速率：16L/min
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| 薄膜測厚儀（可選） ? | · 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ? · LED顯示屏顯示，同時也可輸入所制作薄膜的相關數(shù)據(jù)
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| 外形尺寸 | 設備尺寸：長550mm×寬550m×高1100mm 爐架尺寸：長600mm×寬600m×高600mm
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| 重量 | 約55KG |
| 保質(zhì)期 | 1年（不包密封圈等損耗件） |
注意事項 | · 腔室內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa（相對氣壓）； · 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向石英管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，為了確保安全，建議使用壓力低于0.02MPa，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全； · 對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等） · 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體，如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體，請客戶自行做好相關防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關問題，本公司概不負責。 |
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