| 設(shè)備名稱 | 1英寸雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀—VTC-1RF-II（2021.1.29--科晶實(shí)驗(yàn)室審核） |
| 產(chǎn)品提示 | |
| 主要特點(diǎn) | ·小型臺(tái)式雙靶等離子濺射儀(射頻磁控型) ·此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化物薄膜 ·可以配置高壓直流電源，適合客戶制作一些金屬薄膜 |
| 輸入電源 | ·220VAC 50/60Hz, 單相 ·1200W (包括真空泵） |
| 等離子源 | ·標(biāo)配有兩套13.5MHz,100W的射頻電源（采用手動(dòng)匹配） ·注意：100W手動(dòng)調(diào)節(jié)的RF（射頻）電源價(jià)格較低，但是每一次對于不同的靶材，都需要手動(dòng)設(shè)置參數(shù)才能產(chǎn)生等離子體，比較耗費(fèi)時(shí)間。 ·可選配有500W的直流電源（采用手動(dòng)調(diào)節(jié)功率和電流）
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| 磁控濺射頭 | ·兩個(gè)1英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接 ·靶材尺寸: 直徑為25.4mm,最大厚度3mm ·一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上 ·濺射頭所需冷卻水：流速10L/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16L/min的循環(huán)水冷機(jī)）
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| 真空腔體 | ·真空腔體：256mm OD x 250mm ID x 276mm H，采用高純石英制作 ·密封法蘭:直徑為φ274mm . 采用不銹鋼制作，采用硅膠密封圈密封 ·一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體（如下圖） ·真空度：<1.0×10-2 Torr （采用雙極旋片真空泵）,<5×10-5 torr （采渦旋分子泵） ·如果需要更高真空度，可以定做不銹鋼真空腔室（真空度可以達(dá)到5*10-6torr以下）
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| 載樣臺(tái) | ·載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻），并可加熱 ·載樣臺(tái)尺寸：直徑50mm （最大可放置2英寸的基片） ·旋轉(zhuǎn)速度：3- 10 rpm（可調(diào)速） ·樣品臺(tái)的最高加熱溫度為700℃ (短期使用，恒溫不超過1小時(shí))，長期使用溫度500℃ ，控溫精度+/- 5 ℃
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| 真空泵 | ·型號(hào)：VRD-16 ·抽氣速率：4.4 L/S ·電機(jī)功率：750 W ·極限壓強(qiáng)：5×10-1Pa（不帶負(fù)載） |
| 薄膜測厚儀（可選） | ·一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ? ·LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
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| 質(zhì)保 | 一年質(zhì)保期，終生維護(hù) |
| 認(rèn)證 | ·此產(chǎn)品已通過CE認(rèn)證 證書編號(hào)：M.2021.206.C67994 ·若客戶出認(rèn)證費(fèi)用，本公司保證單臺(tái)設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證
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