| 主要特點 | 多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請致電我公司銷售部。
根據(jù)所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。
一個旋轉開關可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環(huán)境中自動切換，不影響真空度。
可以安裝五種不同材料的靶材，每個靶頭可單獨設置濺射時間功率等參數(shù)，用于生長不同成分的薄膜。
可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。
可選配設備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數(shù)。 |
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| 濺射腔體 | 真空腔體采用304不銹鋼制作
腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (105 L)
鉸鏈式腔門，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口 |
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| 濺射頭&樣品臺 | 5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層（圖一）
濺射腔體內(nèi)安裝有電動擋板
濺射距離:濺射距離可調(diào) 濺射角度:濺射角度可調(diào)
實驗時，需要將靶材和靶材的銅墊片用導電銀漿粘合粘合，（可在本公司購買導電銀漿）
可以單獨訂購RF連接線作為備用（圖二）
設備需要一臺水冷機，用于靶頭冷卻（圖三）
原理圖請參考（圖四）
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| 樣品臺 | 直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。
樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉，可制作16種不同組分的薄膜
樣品臺可以加熱，最高溫度可達600℃（根據(jù)配置不同可能會有變動，具體請咨詢銷售部） |
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| 真空系統(tǒng) | 安裝有KF40真空接口
真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請點擊）
可在本公司選購各種真空泵 |
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| 進氣 | 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
設備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流 |
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| 靶材 | 所要求靶材尺寸：直徑為25mm,最大厚度3mm
可在本公司選購各種靶材 |
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| 薄膜測厚儀（可選） | 可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
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| 凈重 | 60Kg（不包括泵) |
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| 質保 | 一年保修，終身技術支持。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
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| 使用提示 | 此設備為DIY設備，參數(shù)變化較大購買前請務必電話仔細溝通
為了得到較好的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面
超聲波清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。
等離子清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。
制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。
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| 警告 | 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。
氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕
濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶 |
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| 國家專利 | 專利名稱：一種用于高通量鍍膜工藝的五靶磁控濺射鍍膜儀
專利號：ZL 2018 2 0416442.8
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